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半導體清洗光刻膠清洗機等離子體表面處理儀

更新時間:2023-07-17 15:36:49 信息編號:d02a7ck3q986c9
半導體清洗光刻膠清洗機等離子體表面處理儀
43800≥ 1臺
  • 43800.00 元

  • 其它

  • 不銹鋼

  • 半導體清洗,光刻膠清洗機

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詳情介紹

半導體清洗光刻膠清洗機等離子體表面處理儀

產品別名
半導體清洗,光刻膠清洗機,表面處理
面向地區
品牌
其它
材質
不銹鋼
適用范圍
化工
型號
其它
類型
其它
一、產品原理介紹:

(1)半導體清洗 光刻膠清洗機KT-S2DQX-C型等離子清洗機屬于13.56MHz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設備,主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗,塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。

(2)該清洗機內置高純石英倉體,有效容積為500ml,結構為國際上的通用的真空石英法蘭密封結構。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術,使其有效容積增大,不同真空氣體環境下容易匹配,且控制頻率穩定。

(3)真空倉門有觀察窗,可直觀物體的處理過程,其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內,即減少了空間的占用,更便于操作和放置,同時與大型清洗機相比較,從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作,特別適用科學實驗樣品清洗和教學。



二、半導體清洗 光刻膠清洗機的優點:

1.全自動控制使用方便,更長的制程執行時間

2.操作簡易和靈活標準的平臺安裝

3.快速實現客戶定制率——低發熱量

4.使用簡易,節省成本多功能前面板

5.、快速的服務和支持直觀的液晶顯示操作菜單

6.高純石英腔體減少樣品污染可定時功能,時間更

7.射頻屏蔽安全可靠*緊急停止,應對各種突發情況

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三、智能控制滾筒等離子清洗機KT-G1DQX技術參數:



供電電源

AC220V(AC110V可選)

工作電流

整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵)

射頻電源功率

150W

射頻頻率

13.56MHz

頻率偏移量

<0.2MHz

特性阻抗

50歐姆,手動匹配

耦合方式

電容耦合

真空度

≤50Pa

腔體材質

高純石英

腔體容積

Φ100mmX200mm

旋轉速度

20轉/分鐘

氣體流量

0—300ml/min

過程控制

手動控制

清洗時間

手0-999秒

外形尺寸

615X390X560mm

重量

56Kg

真空室溫度

小于65°C

冷卻方式

強制風冷

標配

KF16真空管1米,kf16卡箍2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根,說明書一本。

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