氨逃逸標準是多少 sncr氨逃逸標準控制在多少

品牌: SINZEN（新澤儀器）

型號:TK-1100型

廠家:山東新澤儀器有限公司

一、產品概述（煙氣氨逃逸監測分析儀系統（高溫抽取激光)）

    脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（TK-1100型）是由我公司榮譽出品，本系統包括預處理系統、氣體分析儀和數據處理與顯示三大部分。本系統取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統基本原理是基于紫外差分吸收光譜（DOAS）技術及可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術；紫外差分吸收光譜技術原理為，同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收，不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用，通過對連續光譜做算法分析，可同時測量多種氣體，有效避免各組分相互干擾；激光光譜氣體分析技術已經廣泛應用到對于靈敏度、響應時間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監測領域。

    本公司生產的脫硝氨逃逸一體化在線監測系統（TK-1100型）且易于安裝，特別適用于眾多環保及工業過程氣體排放監測，包括燃煤發電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發電站、水泥廠和化工廠等。

二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

   在大規模燃燒礦物燃料的領域，例如燃煤發電廠，都安裝了前燃（pre-combustion)或后燃（post combustion）NOX 控制技術的脫硝裝置，后燃NOX 控制技術可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR)，但是無論應用哪種方法，基本原理都是一樣的，即都是通過往反應器內注入氨與氮氧化物發生反應，產生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式，也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式，無論何種形式，控制好氨的注入總量和氨在反應區的空間分布便可以da化的降低NOX 排放。

    氨注入的過少，就會降低還原轉化效率，氨注入的過量，不但不能減少NOX 排放，反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區，逃逸的NH3 會與工藝流程中產生的硫酸鹽發生反應生成硫酸銨鹽，且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀，例如沉淀在空氣預熱器扇面上，會造成嚴重的設備腐蝕，并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現氨逃逸現象，高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現象和很嚴重的問題。

 2.2氨逃逸的危害

（1）逃逸掉的氨氣造成資金的浪費，環境污染；

（2）氨逃逸將腐蝕催化劑模塊，造成催化劑失活（即失效）和堵塞，大大縮短催化劑壽命；

（3）逃逸的氨氣，會與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽（具有腐蝕性和粘結性）使位于脫銷下游的空預器蓄熱原件堵塞與腐蝕；

（4）過量的逃逸氨會被飛灰吸收，導致加氣塊（灰磚）無法銷售；

三、規格與技術參數

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