關鍵詞 |
二氧化硅分析儀,超純水處理,高壓鍋爐給水監(jiān)測,發(fā)電廠水質(zhì)監(jiān)測 |
面向地區(qū) |
全國 |
電源電壓 |
220v |
檢測項目 |
二氧化硅 |
適用行業(yè) |
? 發(fā)電廠 ? 超純水處理 ? 冷卻水 ? 水蒸氣循環(huán) ? 凝結(jié)水分析 ? 高壓鍋爐給水 ? 反滲透 ? 渦輪保護 ? 除鹽裝置 |
3S-CL-Si二氧化硅分析儀
SiO?在線分析儀應用領域
? 發(fā)電廠 ? 超純水處理 ? 冷卻水 ? 水蒸氣循環(huán) ? 凝結(jié)水分析 ? 高壓鍋爐給水 ? 反滲透 ? 渦輪保護 ? 除鹽裝置
測量原理 可溶性二氧化硅在酸性介質(zhì)中與鉬酸鹽離子反應，形成黃綠色的硅鉬酸 絡合物，再加入還原性試劑后轉(zhuǎn)化為藍色絡合物。 添加草酸以盡量減 少磷酸鹽的干擾。在850nm處測定，吸光度強度與樣品中二氧化硅的濃 度成正比。
測量范圍大 使用內(nèi)部稀釋模塊，二氧化硅分析儀的測定范圍從 微量μg/L到150mg/L不等。
低試劑消耗 少試劑消耗量，低運行成本。按照分析頻 率為15分鐘，運行90天計算，16mm樣品池只需 2.5L試劑（0.66 US.gal）,26mm樣品池只需5L 試劑（1.32 US.gal）。
自動校準/校驗/清洗（可選） 自動校驗、清洗和校準是顯著減少停機時間和 操作員干預的標準特征，以確保獲得準確的 結(jié)果。用戶可以自由設置驗證、清潔和校準的 時間間隔。
二氧化硅分析儀測量參數(shù) Si4+ / SiO2 (ppb,ppm,mg/L)
測量原理 示差比色法
測量范圍 0.5-1000ppb（26mm反應池） 1-5000ppb（16mm反應池） 添加內(nèi)部稀釋，量程可高達150mg/L
重現(xiàn)性 ±0.5ppb或±5%,取較大值(26mm反 應池)； ±1ppb或±5%，取較大值（16mm反 應池）
分析頻率 可自由編程,接近連續(xù)測量分析
循環(huán)時間 8-10分鐘，包括分析周期前的準備 和測量后的沖洗時間
反應器 內(nèi)置溫度加熱模塊
水樣 溫度：5-50℃ 連接接口：6mm 流量：80 - 500mL/min
濕度 10%至90%不凝結(jié)(室內(nèi)安裝)； 室外安裝需采用保護柜體或防雨系統(tǒng)
排水 無壓力，標準大氣壓下排水 連接：12mm(?英寸 )
安裝 壁掛式（標準)， 臺面支撐或面板安裝 (選項）
通道 1,2 采用內(nèi)置開關閥 3,4 采用外部定序器
防護等級 IP54
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