關鍵詞 |
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面向地區 |
全國 |
電壓 |
其它 |
重量 |
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TK-1100激光氨氣分析儀是基于可調諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術原理,對1512nm處的氨氣吸收譜線進行掃描分析,并采用數字化的鎖相放大器和長光程氣室等技術實現了氨氣的低濃度測量。激光氨氣分析儀根據測試條件的要求選取抽取式安裝方法,維護簡單,可滿足SCR/SNCR脫硝工藝中對注入氨或逃逸氨檢測的需求。
TK-1100激光氣體分析儀采用二極管激光吸收光譜技術,TDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)是可調諧二極管激光吸收光譜技術的簡稱,由于該二極管采用半導體材料制成,通常又稱為可調諧半導體激光吸收光譜技術。TDLAS是通過分析光通過氣體時的選擇吸收來測得氣體濃度。大多數氣體只吸收特定波長的光。激光的發射波長隨二極管溫度和電流的變化而改變,激光二極管安裝了半導體制冷器和溫度傳感器使得發射波長穩定。
技術指標
測量氣體 可測量NH3、HCI、CI2、HF等(需定制)
測量范圍 0-50ppm,量程可選
零點漂移 ≤5%FS.
量程漂移 ≤5%FS.
預熱時間 60min
響應時間 ≤90s(T90)
電壓影響 ≤1%
絕緣電阻 ≥20 M
絕緣強度 無電弧和擊穿等異?,F象
顯示窗口 7”高清晰真彩數字屏,分辨率為800X480
通訊接口 RS232、RS485、4路開關量輸出、2路4-20mA模擬輸出
電源需求 AC180~240V,50Hz,60W
工作溫度 -10℃~50℃
工作濕度 <90%RH
外型尺寸 機柜1000mm* 1600mm* 600mm
安裝方式 采樣探頭可與9英寸ANSI標準法蘭對接
氨注入的過少,就會降低還原轉化效率,氨注入的過量,不但不能減少NOX 排放,反而因為過量的氨導致NH3 逃逸出反應區,逃逸的NH3 會與工藝流程中產生的硫酸鹽發生反應生成硫酸銨鹽,且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀,例如沉淀在空氣預熱器扇面上,會造成嚴重的設備腐蝕,并因此帶來昂貴的維護費用。在反應區注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時也會出現氨逃逸現象,高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉化效率降低是一種非常糟糕的現象和很嚴重的問題。
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